勻膠機有一個(gè)或多個(gè)滴膠系統，可涂不同品種的光刻膠。滴膠的方式有晶片靜止或旋轉滴膠。隨著(zhù)晶片尺寸的增大，出現了多點(diǎn)滴膠或膠口移動(dòng)式滴膠。膠膜厚度一般在500-1000nm，同一晶片和片與片間的誤差小于±5nm。滴膠泵有波紋管式和薄膜式兩種，并有流量計進(jìn)行恒量控制。對涂過(guò)膠的晶片有上下刮邊功能，去掉晶片正反面多余的光刻膠。

　　從其原理來(lái)說(shuō)勻膠機有以下兩個(gè)特點(diǎn)。

　　(1)旋轉速度

　　轉速的快慢和控制精度直接關(guān)系到旋涂層的厚度控制和膜層均勻性。如果標示的轉速和電機的實(shí)際轉速誤差很大，對于要求精密涂覆的科研人員來(lái)說(shuō)是無(wú)法獲得準確的實(shí)驗數據的。目前轉速控制方面有認定標準，如美國NIST標準等。

　　(2)真空吸附系統

　　真空泵一般采用無(wú)油泵，即通常說(shuō)的干泵，因為任何的油污都可能堵塞真空管道，如果真空吸附力降低，會(huì )導致基片吸附不住而產(chǎn)生"飛片"的情況，還會(huì )讓滴的膠液不慎進(jìn)入真空管道系統造成*堵塞。有的勻膠機通過(guò)聯(lián)動(dòng)機制，當真空吸附力不夠時(shí)不會(huì )開(kāi)始旋轉。這樣可有效避免滴的膠液不慎進(jìn)入真空管道系統。